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Elektro-optisches Messsystem zur in-line Produktionskontrolle in der Chipfertigung

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MIR-laserbasierte in-situ Messtechnik wird einen wichtigen Beitrag leisten, Elektronikkomponenten kosteneffizienter, zuverlässiger und nachhaltiger zu produzieren. © CHATCHAI-ROMBIX / Adobe Stock

Motivation

KMU bilden eine tragende Säule der deutschen Wirtschaft. Sie sind oft hochspezialisiert, wichtige Partner in Innovations- und Wertschöpfungsketten und Treiber des technischen Fortschritts. KMU-getriebene Innovationen im Bereich der Elektroniksysteme tragen dazu bei, dass Deutschland seine Wettbewerbsfähigkeit als Produktions- und Entwicklungsstandort in den Anwenderbranchen elektronischer Systeme stärkt.

Ziele und Vorgehen

Im Projekt wird ein Messgerät für die Messung der Dicke und Zusammensetzung dünner funktionaler Schichten in der Halbleiterproduktion entwickelt. Zentrales Element ist hierbei eine hochperformante und kostengünstige Laser-Lichtquelle für spektrale Messungen im mittleren Infrarotbereich, für die ein automatisiertes Herstellungsverfahren sowie eine präzise und leistungsfähige Steuerungselektronik entwickelt werden. Durch die zerstörungsfreie Prüfung direkt in dem Produktionsprozess können Fehler und Defekte frühzeitig erkannt und ggf. behoben werden. Es wird ein erster Demonstrator des Messgeräts aufgebaut und anhand von Messungen an Proben aus der Halbleiterfertigung getestet und qualifiziert.

Innovationen und Perspektiven

Das Projekt stärkt die Position deutscher KMU als Hersteller von Spezialmesstechnik für die Elektronikfertigung im internationalen Wettbewerb. Das zu entwickelnde Messgerät trägt dabei wesentlich zu einer verbesserten Qualitätskontrolle in der Fertigung von Halbleiterbauteilen, insbesondere für die Leistungselektronik, bei. Hiermit kann die Halbleiterproduktion, etwa für Elektromobilität und Energieversorgung, kosten- und energieeffizienter gestaltet werden und die Zuverlässigkeit erhöht werden.